Producten

GZTECH-nanosecond-UV-laser

Kern technische kenmerken

1. Koude 355 nm vaststof-UV-uitvoer, smalle pulsduur, thermisch-vrije bewerking zonder carbonisatie of randverbranding.
2. Uitstekende straalqualiteit M² < 1,2, hoge straalrondheid en lage divergentie voor uiterst fijne precisiebewerking.
3. Ultra-stabiele prestaties: RMS-stabiliteit van uitgangsvermogen en pulsenergie minder dan 3 %, ondersteunt langdurige continue bedrijfsvoering.
4. Breed frequentiebereik van 40–200 kHz instelbaar om te passen bij diverse markerings-, boor- en snijprocessen.
5. Waterkoelsysteem, compatibel met gangbare galvanometers en F-Theta-lenzen voor eenvoudige systeemintegratie.

Specificatietabel laserparameters

Model	Centrale golflengte (nm)	Maximale energie per puls (μJ)	Uitgangsvermogen (w)	Instelbaar frequentiebereik (kHz)	Pulsbreedte (ns)	Stabiliteit van uitgangsvermogen (RMS)	Pulsstabiliteit (RMS)	Lichtkwaliteit m2	Divergentiehoek (mrad)	Circulairheid van de straal (%)	Straaldiameter (na 10× straalvergroter)	Koelmethode
S-3/5-355-N1A	355	>75 / >125	>3 / >5 (@40 kHz)	30~200	10–40 (15±2 ns @40 kHz)	<3%	<3%	<1.2	<2	>90	7±0,5 mm	Luchtkoeling
S-355-10-N1	355	>160	>10 (@60 kHz)	30~200	10–40 (15±2 ns @60 kHz)	<3%	<3%	<1.2	<2	>90	8±0,5 mm	Waterkoeling
S-15-355-N1	355	>250	>15 (@60 kHz)	40–200	10–30 (15±2 ns @60 kHz)	<3%	<3%	<1.2	<2	>90	8±0,5 mm	Waterkoeling
S-20-355-HF	355	>200	>20 (@100 kHz)	80–200	10–30 (15±2 ns @100 kHz)	<3%	<3%	<1.2	<2	>90	8±0,5 mm	Waterkoeling
S-30-355-N1	355	>750	>30 (@40 kHz)	40–200	10–40 (20±2 ns @40 kHz)	<3%	<3%	<1.2	<2	>90	10±0,5 mm	Waterkoeling
S-40-355-N1	355	>800	>40 (@50 kHz)	40–200	10–40 (20±2 ns @50 kHz)	<3%	<3%	<1.2	<2	>90	10±0,5 mm	Waterkoeling
S-10-532	532	＞250	>10 @40 kHz	30~200	<15 @40 kHz	＜3%	＜1.3%	>90	5±0,5 (8×)	—	Verticaal	Waterkoeling
S-20-532-H2	532	>2500	>20 (@8 kHz)	5–20	50–120 (60±2 ns @8 kHz)	<3%	<3%	<1.3	<2	>90	10±0,5 mm	Waterkoeling
S-25-532-N1	532	>416	>25 (@60 kHz)	50–200	10–40 (15±2 ns @60 kHz)	<3%	<3%	<1.3	<2	>90	10±0,5 mm	Waterkoeling
S-60-532-N1	532	>1200	>60 (@50 kHz)	50–200	10–40 (20±2 ns @50 kHz)	<3%	<3%	<1.3	<2	>90	13 ± 0,5 mm	Waterkoeling

Belangrijkste toepassingsgebieden

Precisie-elektronica: markeren, microboren en folie verwijderen voor printplaten (PCB), flexibele printplaten (FPC), chips en elektronische onderdelen.
Kunststoffen en optische onderdelen: spoorloos graveren op siliconen, PC, ABS en optische lenzen zonder witverkleuring.
Halfgeleiders en keramiek: wafersnijden, gravering van keramische substraten en blindgatbewerking.
Medische toepassingen en verpakkingen: steriele marking op medische verbruiksartikelen en microperforatie van cosmetische en voedselfolies.
Laboratorium en onderwijs: UV-bron voor optische experimenten en onderzoek naar precisie-microbewerking.