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JPT CL 2000W 고출력 MOPA 파이버 레이저 소스
JPT CL 2000W 고출력 MOPA 파이버 레이저 소스

JPT CL 2000W 고출력 MOPA 파이버 레이저 소스

제품 설명

CL 2000W는 JPT의 CL 시리즈에서 제공하는 고성능 수냉식 MOPA 섬유 레이저로, 직접 변조형 반도체 레이저를 시드 소스로 사용하고 빔 결합 기술을 결합하여 출력 전력을 향상시켰습니다. 독립적으로 조정 가능한 펄스 주파수와 펄스 폭을 제공하며, 이 레이저는 다양한 재료 및 표면 유형에 걸쳐 안정적인 고 피크 파워 출력과 우수한 적응성을 보장합니다.

전통적인 Q-스위치 섬유 레이저와 비교했을 때, MOPA 구조는 더 큰 제어력과 처리 유연성을 제공합니다. 뛰어난 펄스 형상화와 일관된 에너지 분포 덕분에 CL 2000W는 산업용 레이저 청소, 도장 제거, 녹 제거 및 표면 준비 작업에 이상적인 레이저 소스입니다.

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주요 특징
  • 🔹 MOPA 아키텍처 : 우수한 프로세스 유연성을 위한 독립적으로 제어 가능한 펄스 주파수와 폭

  • 🔹 안정적인 고 피크 파워 : 더 높은 청소 효율과 균일한 결과를 위해 집중된 펄스 에너지를 제공합니다

  • 🔹 우수한 반사 저항 능력 : 금속과 같은 고반사 재료에서 발생하는 후방 반사광에 효과적으로 저항합니다

  • 🔹 경량 출력 헤드 : 시스템 부하를 최소화하며, 휴대용 또는 자동 레이저 청소 시스템과의 통합에 적합합니다

  • 🔹 효율적인 수냉 시스템 : 장기적인 안정성과 신뢰할 수 있는 성능을 보장하며, 중하중 산업 환경에서 사용하기에 적합합니다

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제품 매개변수
시리즈 모델 YDFLP-CL-2000-15-W YDFLP-CL-2000-50-W YDFLP-CL-2000-100-W
강화 케이블 길이 m 10
평균 출력 W 2000
최대 펄스 에너지 mJ 15 50 100
주파수 조정 범위 kHz 1~4000 10~100
펄스 폭 nS 30~500 RR20kHz@100ns Pmax
출력 전력 불안정성 % <5
냉각 방법 수냉식
작동 전압 V 380 (AC)
최대 전력 소비 W 6500
주변 공급 전류 W ≥ 6500
중앙 파장 nm 1064
스펙트럼 너비@3dB nm <15
전력 조절 범위 % 0~100
작동 온도 범위 °C 0~40
순중량 킬로그램 53.9
크기   L×W×H mm 801 × 483 × 150

적용 분야
  • 레이저 강강 제거 : 효율적으로 탄소강, 주물철, 스테인레스와 같은 표면의 산화층을 제거합니다

  • 레이저 도장 제거 : 정밀하게 금속 및 플라스틱 표면의 코팅을 기판을 손상시키지 않고 제거합니다

  • 사전/사후 용접 처리 : 용접 영역의 기름, 산화물 및 잔여물을 제거하여 용접 품질을 향상시킵니다

  • 금형 표면 청소 : 플라스틱, 고무 및 다이캐스팅 몰드에서 오염 물질을 제거하여 몰드 수명을 연장합니다

  • 도막을 위한 표면 사전 처리 : 도장 또는 스프레이 전 표면을 청소하여 접착력을 향상시킵니다

  • 유분 및 얼룩 제거 : 기계 부품에서 기름, 윤활유 및 잔여물을 효과적으로 제거합니다

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