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GZTECH 나노초 UV 레이저
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핵심 기술 특징

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  • 1. 냉각형 355nm 고체 자외선 출력, 좁은 펄스 폭, 탄화나 에지 번짐 없이 열 영향을 최소화한 가공.
  • 2. 우수한 빔 품질(M²<1.2), 높은 빔 원형도 및 낮은 발산각으로 초정밀 가공 가능.
  • 3. 초고안정 성능: 출력 전력 및 펄스 에너지의 RMS 안정성이 3% 미만으로, 장시간 연속 작동을 지원합니다.
  • 4. 40–200kHz의 광범위한 주파수 조절 범위로, 다양한 마킹, 드릴링, 절단 공정에 맞출 수 있습니다.
  • 5. 수냉식 설계로, 주류 갈바노미터 및 F-세타 렌즈와 호환되어 시스템 통합이 용이합니다.

레이저 파라미터 사양 표

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모델 중앙 파장 (nm) 최대 단일 펄스 에너지(μJ) 출력 전력 (w) 주파수 조절 범위(kHz) 펄스 너비 (ns) 출력 전력 안정성(RMS) 펄스 안정성(RMS) 빔 품질 m2 분산각 (mrad) 빔 원형도(%) 빔 지름(10배 빔 확장기 통과 후) 냉각 방법
S-3/5-355-N1A 355 75 이상 / 125 이상 40kHz 기준 3 이상 / 5 이상 30~200 10–40(40kHz 기준 15±2ns) <3% <3% <1.2 <2 >90 7±0.5mm 공기 냉각
S-355-10-N1 355 >160 60kHz 기준 10 이상 30~200 10–40(60kHz 기준 15±2ns) <3% <3% <1.2 <2 >90 8±0.5mm 물 냉각
S-15-355-N1 355 >250 >15(60kHz 기준) 40–200 10–30(60kHz 기준 15±2ns) <3% <3% <1.2 <2 >90 8±0.5mm 물 냉각
S-20-355-HF 355 >200 >20(100kHz 기준) 80–200 10–30(100kHz 기준 15±2ns) <3% <3% <1.2 <2 >90 8±0.5mm 물 냉각
S-30-355-N1 355 >750 >30(40kHz 기준) 40–200 10–40(40kHz 기준 20±2ns) <3% <3% <1.2 <2 >90 10±0.5mm 물 냉각
S-40-355-N1 355 >800 50kHz에서 >40 40–200 10~40(50kHz에서 20±2ns) <3% <3% <1.2 <2 >90 10±0.5mm 물 냉각
S-10-532 532 >250 40kHz에서 >10 30~200 40kHz에서 <15 <3% <1.3% >90 5±0.5(8배) 수직 물 냉각
S-20-532-H2 532 >2500 8kHz에서 >20 5–20 50~120(8kHz에서 60±2ns) <3% <3% <1.3 <2 >90 10±0.5mm 물 냉각
S-25-532-N1 532 >416 >25(60kHz 기준) 50–200 10–40(60kHz 기준 15±2ns) <3% <3% <1.3 <2 >90 10±0.5mm 물 냉각
S-60-532-N1 532 >1200 >60(50kHz 기준) 50–200 10~40(50kHz에서 20±2ns) <3% <3% <1.3 <2 >90 13±0.5mm 물 냉각

주요 적용 분야

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  • 정밀 전자 부품: PCB, FPC, 칩 및 전자 부품에 대한 마킹, 마이크로 드릴링, 필름 제거
  • 플라스틱 및 광학 부품: 실리콘, PC, ABS, 광학 렌즈 등에 흰색 변색 없이 흔적 없는 조각 가공
  • 반도체 및 세라믹: 웨이퍼 스크라이빙, 세라믹 기판 조각, 맹공정(블라인드 홀) 가공
  • 의료 및 포장: 의료용 소모품에 대한 무균 마킹, 화장품 및 식품용 필름에 대한 마이크로 펀칭
  • 연구실 및 교육용: 자외선 광학 실험용 광원 및 정밀 마이크로 가공 연구

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