EN
AR
CS
NL
FR
DE
IT
JA
KO
PL
PT
RU
ES
UK
TH
TR
회절 광학 소자(DOE)
회절 광학 소자(DOE)는 핵심 마이크로 광학 부품이다. 이 소자는 마이크로-나노 리소그래피 기술을 이용해 자외선 경화 실리카 기판 위에 미세 릴리프 위상 구조를 제작하며, 빛의 회절 및 간섭을 통해 레이저 빔의 정밀한 파면 조절을 실현한다. 전통적인 굴절 광학 렌즈와 달리, 하나의 소형 DOE만으로도 빔 성형, 빔 균질화, 빔 분할, 와류 빔 생성, 다중 초점 배열 등 복잡한 기능을 수행할 수 있다. 소형 구조와 높은 설계 유연성을 특징으로 하며, 고급 레이저 가공, 광학 검사, 연구용 광학 시스템의 핵심 광학 부속품이다.
모든 당사 DOE는 UV 융융 실리카 액정 고분자(DOE)와 비교하여, 이 제품은 낮은 흡수율, 높은 레이저 유도 손상 임계값 및 자외선 파장 응용 분야에 대한 뛰어난 호환성을 제공합니다. 우리는 2단계에서 16단계까지의 위상 수준 설계를 지원하며, 회절 효율은 꾸준히 85% 이상을 유지합니다. 표준 제품 외에도 모든 모델을 맞춤형 개발용으로 제공합니다. 고객의 레이저 입력 파라미터, 초점 거리 및 목표 조명 필드 분포에 따라 점 대 점 위상 반복 설계를 수행할 수 있습니다.
제품 분류 및 소개
 |
 |
1.1 맞춤형 분포형 DOE
이는 주로 다음 용도로 사용되는 개방형 맞춤형 DOE입니다. 빔 성형 및 빔 균질화 입사 광의 파라미터, 시스템 초점 거리 및 목표 출력 강도 분포를 기반으로 점 대 점 매핑 알고리즘을 통해 위상 계산을 완료한다. 마이크로 구조는 리소그래피 공정으로 형성되어 가우시안 빔을 임의의 맞춤형 광장 분포로 변환한다. 표준 스팟 패턴에 구애받지 않으므로 비표준 레이저 공정 개발, 공정 반복 및 특수 스팟 맞춤화에 적합하다.
1.2 균질화 DOE
표준 평탄형 균질화 광학 소자로, 다음 두 가지 유형을 제공한다. 직사각형 평탄형 및 원형 평탄형 가우시안 레이저를 날카로운 경계와 균일한 에너지를 갖는 평탄형 스팟으로 변환하여, 가우시안 빔에서 발생하는 중심부 에너지 과잉과 주변부 에너지 감쇠 문제를 해소하고 작업면 상의 일관된 조사 강도를 보장한다. 이는 산업용 레이저 균질화에 가장 널리 사용되는 표준 DOE로, 균일한 표면 조명이 요구되는 다양한 응용 분야에 활용된다.
1.3 나선형 위상판 DOE(보텍스 위상판)
다음 생성에 사용됨 보텍스 빔 . 표준 사양에는 위상 전하 1 및 위상 전하 2가 포함되며, 다른 위상 전하는 맞춤 설정이 가능하다. 이 소자는 방위각 방향으로 높이가 변하는 위상 구조를 통해 파면을 조절한다. 평면 입사 광이 이 소자를 통과하면 나선형 파면이 형성되어 중심에 어두운 코어가 있는 고리 모양의 와류 빔이 생성된다. 이 빔은 궤도 각운동량을 지니며, 광학 트랩, 초해상도 현미경, 광학 토포그래피 측정, 광학 정보 처리 등 첨단 광학 실험 및 장비에 널리 활용된다.
1.4 다중 초점 DOE
출력 인터페이스 3차원 다중 초점 스팟 동시에. 하나의 요소가 광학 축을 따라 또는 동일한 초점 평면 상에서 여러 개의 제어 가능한 초점 위치를 생성할 수 있다. 초점 위치의 수, 초점 간격, 에너지 분포는 광학적 요구 사항에 따라 설계된다. 하나의 레이저 빔이 여러 개의 동기화된 초점 위치로 분할되어 광학 조립을 단순화하고, 여러 개의 렌즈를 중첩시키는 것을 피한다. 동기식 레이저 드릴링, 층별 가공, 3D 비전 초점 조절, 다중 지점 동기 검사에 이상적이다.
일반 사양 표
 |
 |
| 항목 | 사양 |
|---|---|
| 기판 재료 | UV 융융 실리카 |
| 파장 범위 | 400–1700 nm |
| 위상 레벨 | 2레벨 ~ 16레벨 |
| 회절 효율 | ＞85% |
| 구성 요소 크기 | 5–50.8 mm(지름 또는 변 길이), 특수 형상 절단 가능 |
| 초점 위치 수 | 요청 시 맞춤 제작 가능 |
| 초점 간격 | 요청 시 맞춤 제작 가능 |
| 물질적 이점 | 낮은 흡수율, 높은 레이저 유도 손상 임계값으로, 자외선(UV) 레이저 응용에 적합 |
| 공급 범위 | 표준 재고 제품 + 전 파라미터 맞춤형 제작 |
참고: 모든 DOE는 파장 고정 설계입니다. 명목상 광학 성능은 설계 파장에서만 달성됩니다. 맞춤 제작을 원하실 경우, 레이저 파장, 입사 빔 크기, 빔 모드, 작동 초점 거리, 목표 스팟 도면 또는 조명 필드 요구 사항을 알려주십시오. 당사 광학 엔지니어가 시뮬레이션 및 설계를 수행합니다.
일반적인 적용 분야
 |
 |
- 정밀 레이저 가공 레이저 용접, 레이저 세척, 레이저 마킹, SLM 금속 적층 제조, 표면 열처리, 레이저 코팅 제거 등. 플랫톱 균일화 기술로 가공 품질의 일관성을 보장하며, 다중 초점 DOE를 통해 동시 다점 가공이 가능합니다. 맞춤형 스팟은 특수 형상 용접 이음매 및 영역별 에너지 조절에 대응합니다.
- 3차원 비전 및 광학 검사 구조광 투사, 윤곽 스캔, 머신 비전용 균일 조명, LiDAR 빔 성형
- 과학 연구 및 정밀 광학 광학 트랩, 초해상도 현미경, 와류 광학, 레이저 간섭계, 빔 역학 연구. 나선 위상 판형 회절광학소자는 와류 빔 실험을 위한 안정적인 솔루션을 제공합니다.
- 자외선 레이저 응용 분야 자외선 리소그래피, 자외선 레이저 에칭, 자외선 정밀 아블레이션. 융합 실리카는 폴리머 소재의 노화 및 손상 위험을 피하면서 낮은 자외선 흡수율과 높은 손상 저항성을 확보합니다.
- 의료용 레이저 균일화된 치료 영역, 다중 포인트 동기 조사 광로.
