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Láser ultravioleta nanosegundo GZTECH
Características Técnicas Principales
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- 1. Salida UV de estado sólido a 355 nm fría, ancho de pulso estrecho y procesamiento libre de calor sin carbonización ni quemaduras en los bordes.
- 2. Excelente calidad del haz con M² < 1,2, alta circularidad del haz y baja divergencia para mecanizado de precisión ultrafina.
- 3. Rendimiento ultraestable: estabilidad RMS de la potencia de salida y la energía por pulso inferior al 3 %, lo que permite una operación continua prolongada.
- 4. Amplio rango de frecuencia ajustable de 40 a 200 kHz para adaptarse a diversos procesos de marcado, perforación y corte.
- 5. Diseño de refrigeración por agua, compatible con galvanómetros y lentes F-Theta de uso general para una integración sencilla en el sistema.
Tabla de especificaciones del láser
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| Modelo | Longitud de Onda Central (nm) | Energía máxima por pulso (μJ) | Potencia de salida (w) | Rango de ajuste de frecuencia (kHz) | Ancho de pulso (ns) | Estabilidad de la potencia de salida (RMS) | Estabilidad del pulso (RMS) | Calidad del haz m2 | Ángulo de divergencia (mrad) | Circularidad del haz (%) | Diámetro del haz (después del expansor de haz 10×) | Método de enfriamiento |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| S-3/5-355-N1A | 355 | >75 / >125 | >3 / >5 (@40 kHz) | 30~200 | 10–40 (15±2 ns @40 kHz) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 7±0,5 mm | Refrigeración por aire |
| S-355-10-N1 | 355 | >160 | >10 (@60 kHz) | 30~200 | 10–40 (15 ± 2 ns a 60 kHz) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 8 ± 0,5 mm | Refrigeración por agua |
| S-15-355-N1 | 355 | >250 | >15 (a 60 kHz) | 40–200 | 10–30 (15 ± 2 ns a 60 kHz) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 8 ± 0,5 mm | Refrigeración por agua |
| S-20-355-HF | 355 | >200 | >20 (a 100 kHz) | 80–200 | 10–30 (15 ± 2 ns a 100 kHz) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 8 ± 0,5 mm | Refrigeración por agua |
| S-30-355-N1 | 355 | >750 | >30 (a 40 kHz) | 40–200 | 10–40 (20±2 ns a 40 kHz) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 10±0,5 mm | Refrigeración por agua |
| S-40-355-N1 | 355 | >800 | >40 (a 50 kHz) | 40–200 | 10–40 (20±2 ns a 50 kHz) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 10±0,5 mm | Refrigeración por agua |
| S-10-532 | 532 | ＞250 | >10 a 40 kHz | 30~200 | <15 a 40 kHz | ＜3% | ＜1.3% | >90 | 5±0,5 (8×) | — | Vertical | Refrigeración por agua |
| S-20-532-H2 | 532 | >2500 | >20 (@8 kHz) | 5–20 | 50–120 (60±2 ns @8 kHz) | <3% | <3% | <1.3 | <2 | >90 | 10±0,5 mm | Refrigeración por agua |
| S-25-532-N1 | 532 | >416 | >25 (@60 kHz) | 50–200 | 10–40 (15 ± 2 ns a 60 kHz) | <3% | <3% | <1.3 | <2 | >90 | 10±0,5 mm | Refrigeración por agua |
| S-60-532-N1 | 532 | >1200 | >60 (@50 kHz) | 50–200 | 10–40 (20±2 ns a 50 kHz) | <3% | <3% | <1.3 | <2 | >90 | 13±0,5 mm | Refrigeración por agua |
Principales campos de aplicación
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- Electrónica de precisión: Marcado, microperforación y eliminación de capas en PCB, FPC, chips y componentes electrónicos.
- Plásticos y piezas ópticas: Grabado sin marcas en silicona, policarbonato (PC), ABS y lentes ópticas sin blanqueamiento.
- Semiconductores y cerámica: Serrado de obleas, tallado de sustratos cerámicos y procesamiento de orificios ciegos.
- Sector médico y de embalaje: Marcado estéril en consumibles médicos y microperforación para películas cosméticas y alimentarias.
- Laboratorio y educación: Fuente de luz UV para experimentos ópticos y para investigación de microprocesamiento de precisión.
