Elemento óptico difractivo DOE

El elemento óptico difractivo (DOE) es un componente microóptico fundamental. Emplea tecnología de litografía micro-nano para fabricar estructuras de fase micro-relieve sobre sustratos de sílice fundida UV, y logra una modulación precisa del frente de onda de los haces láser mediante la difracción y la interferencia de la luz. A diferencia de las lentes ópticas refractivas tradicionales, un único DOE compacto puede cumplir funciones complejas como conformación de haces, homogeneización de haces, división de haces, generación de haces de vórtice y disposición de múltiples puntos focales. Gracias a su estructura compacta y alta flexibilidad de diseño, constituye un accesorio óptico clave para sistemas láser de procesamiento avanzado, inspección óptica y sistemas ópticos de investigación.

Todos nuestros DOE están fabricados con Sílice fundida UV . En comparación con las DOE de polímero cristal líquido, ofrecen baja absorción, umbral elevado de daño inducido por láser y una compatibilidad superior para aplicaciones en longitudes de onda ultravioleta (UV). Ofrecemos diseños de fase desde 2 niveles hasta 16 niveles, con una eficiencia de difracción constantemente superior al 85 %. Además de los productos estándar, todos los modelos están disponibles para desarrollo personalizado. Podemos realizar un diseño iterativo de fase punto a punto según los parámetros de entrada del láser del cliente, la distancia focal y la distribución deseada del campo luminoso.

Clasificación e introducción del producto

1.1 DOE de distribución personalizada

Es una DOE personalizada abierta principalmente para modelado de haces y homogeneización de haces . Basándose en los parámetros de la luz incidente, la longitud focal del sistema y la distribución de intensidad de salida deseada, el cálculo de fase se realiza mediante un algoritmo de mapeo punto a punto. Se graban microestructuras mediante litografía para convertir haces gaussianos en cualquier distribución personalizada del campo luminoso. Al estar libre de patrones de punto estándar, es adecuado para el desarrollo de procesos láser no convencionales, la iteración de procesos y la personalización de puntos especiales.

1.2 Elemento óptico difusor homogeneizador (DOE)

Elemento óptico homogeneizador plano estándar, disponible en configuración rectangular plana y configuración circular plana . Convierte un láser gaussiano en un punto plano con borde nítido y energía uniforme, eliminando el problema de la excesiva concentración de energía en el centro y la atenuación de la energía en los bordes característico del haz gaussiano, y garantizando una irradiación constante sobre el plano de trabajo. Es el DOE estándar más utilizado para la homogeneización láser industrial y se aplica ampliamente en escenarios que requieren iluminación superficial uniforme.

1.3 Placa de fase espiral (DOE) (placa de fase de vórtice)

Utilizada para generar haces de vórtice . Las especificaciones estándar incluyen carga topológica 1 y carga topológica 2; otras cargas topológicas son personalizables. Modula el frente de onda mediante estructuras de fase con altura variable azimutalmente. Cuando una luz incidente plana atraviesa el elemento, se forma un frente de onda en espiral, generando un haz de vórtice anular con un núcleo oscuro central. El haz transporta momento angular orbital, aplicado ampliamente en pinzas ópticas, microscopía de superresolución, medición óptica de topografía, procesamiento óptico de información y otros experimentos y equipos ópticos avanzados.

1.4 DOE multifocal

Salidas puntos multifocales en 3D simultáneamente. Un solo elemento puede generar múltiples puntos focales controlables a lo largo del eje óptico o sobre el mismo plano focal. El número de puntos focales, la separación focal y la distribución de energía se diseñan según los requisitos ópticos. Un único haz láser se divide en múltiples puntos focales sincrónicos, simplificando el montaje óptico y evitando la superposición de múltiples lentes. Ideal para perforación láser sincrónica, procesamiento por capas, enfoque para visión 3D y verificación sincrónica en múltiples puntos.

Tabla de especificaciones generales

Nota: Todos los DOE son diseños bloqueados en longitud de onda. El rendimiento óptico nominal se logra únicamente a la longitud de onda de diseño. Para personalización, proporcione, por favor, la longitud de onda del láser, el tamaño del spot de incidencia, el modo del haz, la distancia focal de trabajo y los requisitos de dibujo del spot objetivo o del campo luminoso. Nuestros ingenieros ópticos realizarán simulaciones y diseños.

Aplicaciones típicas

1. Mecanizado láser de precisión soldadura láser, limpieza láser, marcado láser, fabricación aditiva metálica SLM, tratamiento térmico superficial, eliminación de recubrimientos mediante láser. La homogeneización tipo flat-top garantiza una calidad de procesamiento constante; los DOE multifocales permiten mecanizado simultáneo en múltiples puntos; los spots personalizados se adaptan a juntas de soldadura de formas especiales y a la regulación zonal de energía.
2. visión 3D e inspección óptica proyección de luz estructurada, escaneo de contornos, iluminación uniforme para visión artificial, conformación de haces LiDAR.
3. Investigación científica y óptica de precisión : Pinzas ópticas, microscopía de superresolución, óptica de vórtices, interferometría láser, investigación de la dinámica de haces. Las placas de fase espiral DOEs ofrecen soluciones estables para experimentos con haces de vórtice.
4. Aplicaciones láser UV : Litografía UV, grabado láser UV, ablación precisa UV. La sílice fundida evita los riesgos de envejecimiento y daño de los elementos poliméricos gracias a su baja absorción UV y alta resistencia al daño.
5. Láseres médicos : Manchas terapéuticas homogeneizadas, trayectorias ópticas de irradiación sincrónica multipunto.