GZTECH-Nanosekunden-UV-Laser
Kern-technische Eigenschaften
![]() |
![]() |
- 1. Kalte, festkörperbasierte UV-Ausgabe bei 355 nm, kurze Impulsbreite, thermofreie Bearbeitung ohne Verkohlung oder Randverbrennung.
- 2. Ausgezeichnete Strahlqualität mit M² < 1,2, hohe Strahlrundheit und geringe Divergenz für ultrapräzise Bearbeitung.
- 3. Ultra-stabile Leistung: RMS-Stabilität der Ausgangsleistung und der Impulsenergie unter 3 %, unterstützt langfristigen Dauerbetrieb.
- 4. Weit einstellbarer Frequenzbereich von 40–200 kHz zur Anpassung an unterschiedliche Markierungs-, Bohr- und Schneidprozesse.
- 5. Wasserkühlungskonzept; kompatibel mit gängigen Galvanometern und F-Theta-Objektiven für einfache Systemintegration.
Tabelle mit Laser-Parameter-Spezifikationen
![]() |
![]() |
| Modell | Zentrale Wellenlänge (nm) | Maximale Einzelimpulsenergie (μJ) | Ausgangsleistung (w) | Einstellbarer Frequenzbereich (kHz) | Pulsschnitt (ns) | Stabilität der Ausgangsleistung (RMS) | Pulsstabilität (RMS) | Lichtstrahlqualität m2 | Abstimmwinkel (mrad) | Strahlrundheit (%) | Strahldurchmesser (nach 10×-Strahlvergrößerer) | Kühlmethode |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| S-3/5-355-N1A | 355 | >75 / >125 | >3 / >5 (@40 kHz) | 30~200 | 10–40 (15±2 ns @40 kHz) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 7±0,5 mm | Luftkühlung |
| S-355-10-N1 | 355 | >160 | >10 (@60 kHz) | 30~200 | 10–40 (15±2 ns bei 60 kHz) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 8±0,5 mm | Wasserkühlung |
| S-15-355-N1 | 355 | >250 | >15 (bei 60 kHz) | 40–200 | 10–30 (15±2 ns bei 60 kHz) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 8±0,5 mm | Wasserkühlung |
| S-20-355-HF | 355 | >200 | >20 (bei 100 kHz) | 80–200 | 10–30 (15±2 ns bei 100 kHz) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 8±0,5 mm | Wasserkühlung |
| S-30-355-N1 | 355 | >750 | >30 (bei 40 kHz) | 40–200 | 10–40 (20±2 ns bei 40 kHz) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 10±0,5 mm | Wasserkühlung |
| S-40-355-N1 | 355 | >800 | >40 (bei 50 kHz) | 40–200 | 10–40 (20±2 ns bei 50 kHz) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 10±0,5 mm | Wasserkühlung |
| S-10-532 | 532 | >250 | >10 bei 40 kHz | 30~200 | <15 bei 40 kHz | <3% | <1.3% | >90 | 5±0,5 (8×) | — | Vertikal | Wasserkühlung |
| S-20-532-H2 | 532 | >2500 | >20 (@8 kHz) | 5–20 | 50–120 (60 ± 2 ns @8 kHz) | <3% | <3% | <1.3 | <2 | >90 | 10±0,5 mm | Wasserkühlung |
| S-25-532-N1 | 532 | >416 | >25 (@60 kHz) | 50–200 | 10–40 (15±2 ns bei 60 kHz) | <3% | <3% | <1.3 | <2 | >90 | 10±0,5 mm | Wasserkühlung |
| S-60-532-N1 | 532 | >1200 | >60 (@50 kHz) | 50–200 | 10–40 (20±2 ns bei 50 kHz) | <3% | <3% | <1.3 | <2 | >90 | 13 ± 0,5 mm | Wasserkühlung |
Hauptanwendungsgebiete
![]() |
![]() |
- Präzisionselektronik: Kennzeichnung, Mikrobohren und Folienentfernung für Leiterplatten (PCB), flexible Leiterplatten (FPC), Chips und elektronische Komponenten.
- Kunststoff- und optische Teile: Spurloses Gravieren von Silikon, Polycarbonat (PC), ABS und optischen Linsen ohne Aufhellen.
- Halbleiter und Keramik: Wafer-Schneiden, Bearbeitung keramischer Substrate und Tiefenbohren.
- Medizin und Verpackung: Sterile Kennzeichnung medizinischer Verbrauchsmaterialien und Mikroperforation für kosmetische und Lebensmittel-Folien.
- Labor und Bildung: Lichtquelle für UV-optische Experimente und präzise Mikrobearbeitungsforschung.

EN
AR
CS
NL
FR
DE
IT
JA
KO
PL
PT
RU
ES
UK
TH
TR













