Všechny kategorie

Produkty

Nanosekundový UV laser GZTECH
Nanosekundový UV laser GZTECH
Nanosekundový UV laser GZTECH
Nanosekundový UV laser GZTECH
Nanosekundový UV laser GZTECH
Nanosekundový UV laser GZTECH
Nanosekundový UV laser GZTECH
Nanosekundový UV laser GZTECH

Nanosekundový UV laser GZTECH

Klíčové technické parametry

2-S-5-355-N1F - 副本.jpg 2-S-10-355-N1 - 副本.jpg
  • 1. Chladné UV výstupní záření o vlnové délce 355 nm ze pevného stavu, úzká šířka pulzu, zpracování bez tepelného zatížení bez uhlíkování nebo opálení okrajů.
  • 2. Vynikající kvalita svazku M² < 1,2, vysoká kruhovitost svazku a nízká divergence pro ultrajemné přesné opracování.
  • 3. Ultra-stabilní výkon: RMS stabilita výstupního výkonu a energie pulzu menší než 3 %, umožňuje dlouhodobý nepřetržitý provoz.
  • 4. Široký frekvenční rozsah 40–200 kHz, nastavitelný pro různé procesy značení, vrtání a řezání.
  • 5. Chlazení vodou, kompatibilní s běžnými galvanometry a objektivy F-Theta pro snadnou integraci do systému.

Tabulka specifikací laserových parametrů

3-1.jpg 3-2.jpg
Model Střední vlnová délka (nm) Maximální energie jednoho pulzu (μJ) Výstupní výkon (W) Rozsah nastavení frekvence (kHz) Šířka pulsu (ns) Stabilita výstupního výkonu (RMS) Stabilita pulzu (RMS) Kvalita paprsku M² Úhlové odchylky (mrad) Kruhovost svazku (%) Průměr svazku (po 10× rozšiřovači svazku) Metoda chlazení
S-3/5-355-N1A 355 >75 / >125 >3 / >5 (při 40 kHz) 30~200 10–40 (15±2 ns při 40 kHz) <3% <3% <1.2 <2 >90 7±0,5 mm Vzdušné chlazení
S-355-10-N1 355 >160 >10 (při 60 kHz) 30~200 10–40 (15±2 ns při 60 kHz) <3% <3% <1.2 <2 >90 8±0,5 mm VLADENÉ CHLADENÍ
S-15-355-N1 355 >250 >15 (při 60 kHz) 40–200 10–30 (15±2 ns při 60 kHz) <3% <3% <1.2 <2 >90 8±0,5 mm VLADENÉ CHLADENÍ
S-20-355-HF 355 >200 >20 (při 100 kHz) 80–200 10–30 (15±2 ns při 100 kHz) <3% <3% <1.2 <2 >90 8±0,5 mm VLADENÉ CHLADENÍ
S-30-355-N1 355 >750 >30 (při 40 kHz) 40–200 10–40 (20±2 ns při 40 kHz) <3% <3% <1.2 <2 >90 10±0,5 mm VLADENÉ CHLADENÍ
S-40-355-N1 355 >800 >40 (při 50 kHz) 40–200 10–40 (20 ± 2 ns při 50 kHz) <3% <3% <1.2 <2 >90 10±0,5 mm VLADENÉ CHLADENÍ
S-10-532 532 >250 >10 (při 40 kHz) 30~200 <15 (při 40 kHz) <3% <1.3% >90 5 ± 0,5 (8×) Vertikální VLADENÉ CHLADENÍ
S-20-532-H2 532 >2500 >20 (při 8 kHz) 5–20 50–120 (60 ± 2 ns při 8 kHz) <3% <3% <1.3 <2 >90 10±0,5 mm VLADENÉ CHLADENÍ
S-25-532-N1 532 >416 >25 (@60 kHz) 50–200 10–40 (15±2 ns při 60 kHz) <3% <3% <1.3 <2 >90 10±0,5 mm VLADENÉ CHLADENÍ
S-60-532-N1 532 >1200 >60 (@50 kHz) 50–200 10–40 (20 ± 2 ns při 50 kHz) <3% <3% <1.3 <2 >90 13 ± 0,5 mm VLADENÉ CHLADENÍ

Hlavní aplikační oblasti

3-S-15-355-N1 - 副本.jpg 3-S-20-355-N 1 - 副本.jpg
  • Precisionní elektronika: značení, mikrovrubování a odstraňování fólií u tištěných spojů (PCB), flexibilních tištěných spojů (FPC), čipů a elektronických součástek.
  • Plasty a optické součásti: bezstopy rytí na křemičitanu, polykarbonátu (PC), akrylonitril-butadien-styrenu (ABS) a optických čočkách bez bílení.
  • Polovodiče a keramika: řezání polovodičových destiček (waferů), rytení keramických podložek a zpracování slepých otvorů.
  • Zdravotnictví a balení: sterilní značení zdravotnických spotřebních materiálů a mikroperforace pro kosmetické a potravinářské fólie.
  • Laboratoře a vzdělávání: zdroj UV světla pro optické experimenty a výzkum přesného mikrozpracování.

4-1.jpg

dotaz
Kontaktujte nás

Náš přátelský tým by vás rád slyšel!

Vaše jméno *
Telefon *
E-mail *
Vaše dotaz