Наносекундний УФ-лазер GZTECH
Ключові технічні характеристики
![]() |
![]() |
- 1. Холодне твердотільне УФ-випромінювання на довжині хвилі 355 нм, вузька тривалість імпульсу, обробка без теплового впливу без карбонізації або підпалювання країв.
- 2. Відмінна якість пучка (M² < 1,2), висока круговість пучка та низька розбіжність для надточної обробки.
- 3. Ультрастабільна робота: стабільність вихідної потужності та енергії імпульсу за середньоквадратичним відхиленням (RMS) менше 3 %, що забезпечує тривалу безперервну роботу.
- 4. Широкий діапазон частот — від 40 до 200 кГц, регулюваний для адаптації до різноманітних процесів маркування, свердлення та різання.
- 5. Система водяного охолодження, сумісна з основними гальванометричними сканерами та лінзами F-Theta, що спрощує інтеграцію в систему.
Таблиця параметрів лазера
![]() |
![]() |
| Модель | Центральна хвильова довжина (нм) | Максимальна енергія одного імпульсу (мкДж) | Вихідна потужність (Вт) | Діапазон регулювання частоти (кГц) | Товщина імпульсу (нс) | Стабільність вихідної потужності (RMS) | Стабільність імпульсу (RMS) | Якість променя M² | Кут зсходження (мрад) | Круговість пучка (%) | Діаметр пучка (після 10-кратного розширення пучка) | Метод охолодження |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| S-3/5-355-N1A | 355 | >75 / >125 | >3 / >5 (при 40 кГц) | 30~200 | 10–40 (15±2 нс при 40 кГц) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 7±0,5 мм | Повітряне охолодження |
| S-355-10-N1 | 355 | >160 | >10 (при 60 кГц) | 30~200 | 10–40 (15±2 нс при 60 кГц) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 8±0,5 мм | Водяне охолодження |
| S-15-355-N1 | 355 | >250 | >15 (при 60 кГц) | 40–200 | 10–30 (15±2 нс при 60 кГц) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 8±0,5 мм | Водяне охолодження |
| S-20-355-HF | 355 | >200 | >20 (при 100 кГц) | 80–200 | 10–30 (15±2 нс при 100 кГц) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 8±0,5 мм | Водяне охолодження |
| S-30-355-N1 | 355 | >750 | >30 (при 40 кГц) | 40–200 | 10–40 (20±2 нс при 40 кГц) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 10±0,5 мм | Водяне охолодження |
| S-40-355-N1 | 355 | >800 | >40 (при 50 кГц) | 40–200 | 10–40 (20±2 нс при 50 кГц) | <3% | <3% | <1.2 | <2 | >90 | 10±0,5 мм | Водяне охолодження |
| S-10-532 | 532 | >250 | >10 (при 40 кГц) | 30~200 | <15 (при 40 кГц) | <3% | <1.3% | >90 | 5±0,5 (8×) | — | Вертикально | Водяне охолодження |
| S-20-532-H2 | 532 | >2500 | >20 (при 8 кГц) | 5–20 | 50–120 (60±2 нс при 8 кГц) | <3% | <3% | <1.3 | <2 | >90 | 10±0,5 мм | Водяне охолодження |
| S-25-532-N1 | 532 | >416 | >25 (при 60 кГц) | 50–200 | 10–40 (15±2 нс при 60 кГц) | <3% | <3% | <1.3 | <2 | >90 | 10±0,5 мм | Водяне охолодження |
| S-60-532-N1 | 532 | >1200 | >60 (при 50 кГц) | 50–200 | 10–40 (20±2 нс при 50 кГц) | <3% | <3% | <1.3 | <2 | >90 | 13±0,5 мм | Водяне охолодження |
Основні галузі застосування
![]() |
![]() |
- Точна електроніка: маркування, мікро-свердлення та зняття плівки з друкованих плат, гнучких друкованих плат, мікросхем та електронних компонентів.
- Пластик та оптичні деталі: безслідове гравірування на силіконі, полікарбонаті, АБС-пластмасі та оптичних лінзах без побіління.
- Напівпровідники та кераміка: розрізання пластин, різьблення керамічних підкладок та обробка сліпих отворів.
- Медицина та упаковка: стерильне маркування медичних споживчих товарів та мікроперфорація косметичних і харчових плівок.
- Лабораторії та освіта: джерело УФ-світла для оптичних експериментів і досліджень у сфері точної мікрообробки.

EN
AR
CS
NL
FR
DE
IT
JA
KO
PL
PT
RU
ES
UK
TH
TR













