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Laser UV Nanosegundo GZTECH

Características Técnicas Principais

1. Saída UV de estado sólido a frio em 355 nm, largura de pulso estreita, processamento livre de calor sem carbonização ou queima nas bordas.
2. Excelente qualidade do feixe M² < 1,2, alta circularidade do feixe e baixa divergência para usinagem de ultra-precisão.
3. Desempenho ultraestável: estabilidade RMS da potência de saída e da energia por pulso inferior a 3 %, suportando operação contínua prolongada.
4. Faixa de frequência ampla, ajustável de 40–200 kHz, para adequação a diversos processos de marcação, perfuração e corte.
5. Projeto com refrigeração à água, compatível com galvanômetros e lentes F-Theta de uso difundido, facilitando a integração no sistema.

Tabela de Especificações do Laser

Modelo	Comprimento de Onda Central (nm)	Energia Máxima por Pulso (μJ)	Potência de saída (w)	Faixa de Ajuste de Frequência (kHz)	Largura do pulso (ns)	Estabilidade da Potência de Saída (RMS)	Estabilidade de Pulso (RMS)	Qualidade do feixe m2	Ângulo de divergência (mrad)	Circularidade do Feixe (%)	Diâmetro do Feixe (Após Expansor de Feixe de 10×)	Método de resfriamento
S-3/5-355-N1A	355	>75 / >125	>3 / >5 (@40kHz)	30~200	10–40 (15±2ns @40kHz)	<3%	<3%	<1.2	<2	>90	7±0,5 mm	Resfriamento a ar
S-355-10-N1	355	>160	>10 (@60kHz)	30~200	10–40 (15±2 ns @60 kHz)	<3%	<3%	<1.2	<2	>90	8±0,5 mm	Alimentação
S-15-355-N1	355	>250	>15 (@60 kHz)	40–200	10–30 (15±2 ns @60 kHz)	<3%	<3%	<1.2	<2	>90	8±0,5 mm	Alimentação
S-20-355-HF	355	>200	>20 (@100 kHz)	80–200	10–30 (15±2 ns @100 kHz)	<3%	<3%	<1.2	<2	>90	8±0,5 mm	Alimentação
S-30-355-N1	355	>750	>30 (@40 kHz)	40–200	10–40 (20±2 ns @ 40 kHz)	<3%	<3%	<1.2	<2	>90	10±0,5 mm	Alimentação
S-40-355-N1	355	>800	>40 (@ 50 kHz)	40–200	10–40 (20±2 ns @ 50 kHz)	<3%	<3%	<1.2	<2	>90	10±0,5 mm	Alimentação
S-10-532	532	＞250	>10 @ 40 kHz	30~200	<15 @ 40 kHz	＜3%	＜1.3%	>90	5±0,5 (8×)	—	Vertical	Alimentação
S-20-532-H2	532	>2500	>20 (@8 kHz)	5–20	50–120 (60±2 ns @8 kHz)	<3%	<3%	<1.3	<2	>90	10±0,5 mm	Alimentação
S-25-532-N1	532	>416	>25 (@60 kHz)	50–200	10–40 (15±2 ns @60 kHz)	<3%	<3%	<1.3	<2	>90	10±0,5 mm	Alimentação
S-60-532-N1	532	>1200	>60 (@50 kHz)	50–200	10–40 (20±2 ns @ 50 kHz)	<3%	<3%	<1.3	<2	>90	13±0,5 mm	Alimentação

Principais áreas de aplicação

Eletrônicos de precisão: marcação, microperfuração e remoção de filmes em PCB, FPC, chips e componentes eletrônicos.
Peças plásticas e ópticas: gravação sem marcas em silicone, PC, ABS e lentes ópticas, sem branqueamento.
Semicondutores e cerâmicas: ranhuramento de wafers, entalhe em substratos cerâmicos e usinagem de furos cegos.
Médico e embalagem: Marcação estéril em consumíveis médicos e microperfuração para filmes cosméticos e alimentícios.
Laboratório e educação: Fonte de luz para experimentos ópticos UV e pesquisa de microprocessamento de precisão.