Elemento Óptico Difrativo DOE
O Elemento Óptico Difrativo (DOE) é um componente micro-óptico essencial. Ele utiliza tecnologia de litografia micro-nano para fabricar estruturas de fase em relevo microscópico sobre substratos de sílica fundida UV, permitindo a modulação precisa do frente de onda de feixes laser por meio da difração e interferência da luz. Diferentemente das lentes ópticas refrativas tradicionais, um único DOE compacto pode desempenhar funções complexas, tais como modelagem de feixe, homogeneização de feixe, divisão de feixe, geração de feixe em vórtice e organização de múltiplos pontos focais. Com estrutura compacta e alta flexibilidade de projeto, o DOE é um acessório óptico fundamental em sistemas avançados de processamento a laser, inspeção óptica e pesquisa óptica.
Todos os nossos DOEs são fabricados em Sílica Fusa UV . Em comparação com DOEs de polímero cristal líquido, oferecem baixa absorção, limiar elevado de dano induzido por laser e compatibilidade superior para aplicações em comprimento de onda UV. Oferecemos designs de fase com níveis de 2 a 16, com eficiência de difração consistentemente acima de 85%. Além dos produtos padrão, todos os modelos estão disponíveis para desenvolvimento personalizado. Podemos realizar um design iterativo de fase ponto a ponto com base nos parâmetros de entrada do laser do cliente, distância focal e distribuição desejada do campo luminoso.
Classificação e Introdução de Produtos
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1.1 DOE de Distribuição Personalizada
Trata-se de um DOE personalizado aberto, destinado principalmente a modelagem de feixe e homogeneização de feixe com base nos parâmetros da luz incidente, na distância focal do sistema e na distribuição de intensidade de saída desejada, o cálculo da fase é realizado por meio de um algoritmo de mapeamento ponto a ponto. Microestruturas são gravadas por litografia para converter feixes gaussianos em qualquer distribuição personalizada de campo luminoso. Livre de padrões de ponto padrão, é adequado para o desenvolvimento de processos a laser não convencionais, iteração de processos e personalização especial de pontos.
1.2 DOE homogeneizador
Elemento óptico homogeneizador plano padrão, disponível em plano-topo retangular e plano-topo circular converte um feixe laser gaussiano em um ponto plano-topo com borda nítida e energia uniforme, eliminando o problema da energia excessivamente alta no centro e da atenuação da energia nas bordas do feixe gaussiano, garantindo assim uma irradiação consistente no plano de trabalho. É o DOE padrão mais comumente utilizado para homogeneização industrial de lasers, amplamente empregado em cenários que exigem iluminação uniforme de superfícies.
1.3 DOE de placa de fase espiral (placa de fase de vórtice)
Utilizado para gerar feixes de vórtice . As especificações padrão incluem carga topológica 1 e carga topológica 2; outras cargas topológicas são personalizáveis. Ele modula o frente de onda por meio de estruturas de fase com altura variável azimutalmente. Quando a luz incidente plana atravessa o elemento, forma-se um frente de onda espiral, gerando um feixe de vórtice anular com um núcleo escuro central. O feixe transporta momento angular orbital, sendo amplamente aplicado em pinças ópticas, microscopia de super-resolução, medição de topografia óptica, processamento de informação óptica e outros experimentos e equipamentos ópticos avançados.
1.4 DOE Multifocal
Output pontos multifocais 3D simultaneamente. Um único elemento pode gerar múltiplos pontos focais controláveis ao longo do eixo óptico ou no mesmo plano focal. O número de pontos focais, o espaçamento focal e a distribuição de energia são projetados conforme os requisitos ópticos. Um único feixe laser é dividido em múltiplos pontos focais sincronizados, simplificando a montagem óptica e evitando o empilhamento de várias lentes. Ideal para perfuração a laser sincronizada, processamento em camadas, focagem para visão 3D e inspeção sincronizada em múltiplos pontos.
Tabela de Especificações Gerais
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| Item | Especificação |
|---|---|
| Material de substrato | Sílica Fusa UV |
| Faixa de Comprimento de Onda | 400–1700 nm |
| Níveis de Fase | 2 níveis a 16 níveis |
| Eficiência de Difração | >85% |
| Tamanho do componente | 5–50,8 mm (diâmetro / comprimento do lado), corte em formato especial disponível |
| Número de Pontos Focais | Personalizado mediante solicitação |
| Espaçamento Focal | Personalizado mediante solicitação |
| Vantagens materiais | Baixa absorção, alto limiar de dano induzido por laser, adequado para aplicações com laser UV |
| Escopo de fornecimento | Estoque padrão + personalização completa de parâmetros |
Observação: Todos os DOE são projetos bloqueados em comprimento de onda. O desempenho óptico nominal é obtido apenas no comprimento de onda de projeto. Para personalização, forneça, por favor, o comprimento de onda do laser, o diâmetro do feixe incidente, o modo do feixe, o comprimento focal de trabalho e os requisitos de desenho do ponto alvo ou do campo luminoso. Nossos engenheiros ópticos realizarão simulações e projetos.
Aplicações típicas
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- Usinagem a laser de precisão soldagem a laser, limpeza a laser, marcação a laser, manufatura aditiva metálica SLM, tratamento térmico superficial, remoção de revestimentos por laser. A homogeneização tipo flat-top garante qualidade consistente de processamento; os DOE multifocais permitem usinagem simultânea em múltiplos pontos; pontos personalizados adaptam-se a juntas de soldagem de formatos especiais e à regulação de energia por zona.
- visão 3D e inspeção óptica projeção de luz estruturada, digitalização de contornos, iluminação uniforme para visão computacional, conformação de feixe LiDAR.
- Pesquisa científica e óptica de precisão : Pinças ópticas, microscopia de super-resolução, óptica de vórtices, interferometria a laser, pesquisa em dinâmica de feixes. Placas de fase espiral DOEs fornecem soluções estáveis para experimentos com feixes de vórtice.
- Aplicações de Laser UV : Litografia UV, gravação a laser UV, ablação precisa UV. A sílica fundida evita os riscos de envelhecimento e danos associados a elementos poliméricos, graças à sua baixa absorção UV e alta resistência à danificação.
- Laser Médicos : Manchas terapêuticas homogeneizadas, trajetórias ópticas de irradiação síncrona em múltiplos pontos.
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