GZTECH série GM 500 W - 1000 W laser à fibre pulsé MOPA haute puissance
Il s'agit du laser à fibre pulsé MOPA haute puissance de GZTECH, disponible en modèles 500 W et 1000 W. Doté d'une excellente qualité de faisceau et d'une large plage de largeur d'impulsion, il est idéal pour les applications de traitement à haute énergie dans les secteurs de l'énergie et des batteries lithium. Il offre une sortie stable et une excellente efficacité de conversion électro-optique.
Caractéristiques du produit
- Architecture MOPA Haute Puissance : Prend en charge une puissance de sortie de 500 W / 1000 W, servant de dispositif principal pour le traitement à haute énergie dans les industries de l'énergie et des batteries lithium.
- Qualité de faisceau supérieure : Une qualité de faisceau M² ≤ 1,8 assure une forte focalisation, adaptée aux traitements fins et aux scénarios à densité d'énergie élevée.
- Paramètres largement réglables : La fréquence de répétition varie de 1 à 4000 kHz, et la largeur d'impulsion du YFPN-500-GM s'étend de 20 à 500 ns, permettant une adaptation souple aux différents besoins de traitement des matériaux.
- Rendement Elevé : L'efficacité de conversion électro-optique est augmentée de 20 %, combinée à une conception assurant un fonctionnement stable afin de réduire la consommation d'énergie à long terme.
- Compatibilité Multi-Scénarios : Convient aux applications industrielles telles que le revêtement de puissance et la conception de batteries au lithium, et compatible avec l'intégration d'équipements de traitement courants.
Paramètres techniques

Application
- Revêtement de puissance
- Conception de batterie au lithium
- Purification
- Scription à grande vitesse
- Nettoyage au laser
- Soudage aluminium-cuivre
- Soudage de batterie
- Découpe de moule
- Traitement par oxydation
FAQ
Quelle est la plage réglable de la fréquence de répétition et de la largeur d'impulsion pour ce laser ?
Réponse : La fréquence de répétition varie de 1 à 4000 kHz, et la largeur d'impulsion du YFPN-500-GM peut être ajustée entre 20 et 500 ns, s'adaptant ainsi à différents besoins de procédé.
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